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光學(xué)玻璃晶體的化學(xué)拋光是利用氫氟酸破壞玻璃表面，使原有的表層硅氧膜破壞，生產(chǎn)新的表面硅氧膜，使得玻璃得到很高的透過(guò)率且表面很光潔。目前，平板玻璃的拋光大多用化學(xué)拋光和機(jī)械拋光相結(jié)合的方法，也即化學(xué)機(jī)械拋光。

采用化學(xué)侵蝕拋光玻璃時(shí)，除使用氫氟酸外，還要加入能使侵蝕生成物（硅氟化物）溶解的添加物。一般采用硫酸，硫酸具有酸性強(qiáng)，沸點(diǎn)高、不易揮發(fā)、室溫下比較穩(wěn)定等特點(diǎn)，故通常將硫酸加入氫氟酸中配成拋光液。另外，因氫氟酸易揮發(fā)。侵蝕性強(qiáng)，故需要在密閉條件下進(jìn)行拋光，同時(shí)要對(duì)拋光過(guò)程中產(chǎn)生的廢氣、廢水進(jìn)行嚴(yán)格的處理。

影響化學(xué)拋光的因素如下：

1、玻璃的成分 一般情況下鈉鈣硅玻璃拋光比較困難，效果較差，含鉛玻璃化學(xué)拋光效果較好；

2、拋光液的成分  特別是拋光液中氫氟酸和硫酸的比例構(gòu)成，要根據(jù)玻璃的成分進(jìn)行調(diào)整。一般的鉛晶質(zhì)玻璃配方中：7%~10.5%的氫氟酸和58%~65%的硫酸。對(duì)鈉鈣硅玻璃來(lái)說(shuō)，水、氫氟酸、硫酸的體積比比例為1：（1.62~2）：（2.76~3）。

3、拋光溫度 溫度過(guò)低則反應(yīng)慢，溫度過(guò)高反應(yīng)劇烈，一般以40~50℃為宜。

4、處理時(shí)間 處理時(shí)間短，拋光作用不完全，處理時(shí)間長(zhǎng)則玻璃表面會(huì)有鹽類沉積物，因此具體的拋光時(shí)間，應(yīng)依據(jù)拋光液的培比、處理溫度等來(lái)決定。一般情況下采用短時(shí)間多次拋光的方法來(lái)處理，每次處理時(shí)間在6~15s左右，處理次數(shù)不超過(guò)10次，若處理次數(shù)過(guò)多易在表面形成波紋等缺陷，每次酸處理完后都應(yīng)將玻璃表面用水沖洗以去掉沉淀的鹽類。